半导体产业四大核心设备——光刻机、离子注入机、刻蚀机、薄膜沉积机，这其中光刻机是最经常被人提及的，原因很简单，因为光刻机是最难的。
杨东升也是正式涉足光刻机领域后，才知道这一块有多难。
如果是追着外国人的屁股研究的话，他们永远别想赶上别人，而且永远也别想盈利，他们无论做出何种等级的设备，西方国家马上就会解除对同等设备的禁运。
得益于杨东升的先知先觉，东升半导体决定直接上马极紫外线光刻相关技术。
光刻机三大核心部件——光源、镜头、工作台。
其中的关键光源技术，深紫外线使用的是准分子激光，跟下一代极紫外线光源相互的关联很少！
而且准分子激光技术应用很广泛，此项技术不止美国一家掌握，想绕过美国相对简单，相比之下极紫外线光源技术就比较妖孽了。
后世阿斯麦的极紫外线光刻机，使用的光源是采用激光持续轰击锡滴。
由于极紫外线只占锡滴发出的光很少一部分，大约只有百分之几，因此要使用足够强的激光轰击锡滴，才能发出足够强的光——至少得是3万瓦以上，而且还得持续不停的输出。
大功率的激光，持续不断的准确命中锡滴，每一项都是要命的技术。
在镜头上，极紫外线也与深紫外线有很大不同，极紫外线非常容易被吸收，深紫外线使用的透镜式镜头已经不能使用了，因为镜头会直接把极紫外线光线吸收掉，因此使用反射式镜头。
由于极紫外线的波长只有十几个纳米，深紫外线使用的纳米极精度，人工打磨镜头的技术也不能用了。
极紫外线用的反射式镜头，精度必须达到皮米级。
而且由于反射式镜头是一个不规则的椭球体——光源位于椭球体其中一个圆心，使用人工打磨，已经不可能。
必须要用等离子自动抛光设备，这东西中国没有，国外也买不来，只能自己造。
镜头上还要镀膜，把极紫外光以外的其他光线吸收掉。
这种规格的镀膜机，也买不来，杨东升也得自己造。
这些还不算完，由于极紫外线非常容易被吸收，即便空气也会吸收极紫外线，所以整个工作环境必须保持高度真空。
光刻机内部必须先使用普通真空泵先吸一遍，再用分子真空泵抽一遍，这还不够，必须还得用吸附式方法，再抽一遍。
杨东升敢把还在研制中的技术，拿给他们看的原因就是光刻机的整体构造，其实没什么秘密可言，考验的就是实打实的工业实力。
这就是最讨厌的地方！
中国进口了上千台航空发动机，但是对自身航空发动机技术的提升，几乎没有任何作用。
荷兰阿斯麦的极紫外线光刻机使用的是美国的光源，德国的镜头，瑞典的轴承，法国的阀件……可以说集合了西方所有发达国家先进技术于一身。
极紫外线光刻机，中国确实做不出来，但是美国人独自也做不出来。